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英特尔首台新型High NA极紫外光刻系统
发布日期:2024-03-24 08:25     点击次数:174

荷兰半导体设备制造商ASML于12月23日宣布,首批新型将交付给英特尔High NA极紫外光刻系统。每台新机器的成本将超过3亿美元,预计将帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。ASML在社交媒体平台上发布了这台机器从荷兰维尔德霍芬总部出发的照片。照片中的一些机器被安装在一个红丝带周围的保护盒里。

ASML交付英特尔首台新型High NA极紫外光刻系统.png

ASML说:“我们很兴奋,也很自豪能把我们的第一个High NA EUV系统交付给英特尔。“ASML在光刻系统市场占据主导地位。High NA机组装后会比卡车大,运输250个单独的板条箱,JSCJ长晶CJ(JCET长电)科技 包括13个大容器。商业芯片制造预计将于2026年或2027年开始使用。2022年,英特尔订购了第一台High NA试验机。台积电、三星、SK海力士美光等已订购该机器的芯片制造商。ASML在11月表示,该公司预计将在今年年底前交付首批试点工具。

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