5月3日消息，据俄罗斯媒体报道称，为了加速研发自主光刻机，俄罗斯已经敲定了相关的合作伙伴。据悉，俄罗斯将提供约100亿卢布的信贷支持，资助两个白俄罗斯微电子领域项目。这些项目包括集成电路成套工艺领域的Integral和精密光刻设备领域的Planar。此外，白俄罗斯方面还透露，已经签署了关于建立两国光掩模开发和生产联合中心的协议。 

这一举措将使得“我们能够开展联合开发工作并减少白俄罗斯和俄罗斯消费者对进口供应的依赖”。据了解，Planar公司（KBTEM-OMO）是东欧最大的半导体设备供应商，已有50余年的半导体设备研发与制造历史，其产品包括基于激光直写的图形发生器、掩模检测设备、掩模修补设备、接近/接触光刻机、投影光刻机与硅片检测设备等。此前，俄罗斯科学院曾宣称，到2028年， 亿配芯城 自主研发的光刻机将问世，并可生产出7nm芯片。然而，由于国际制裁的影响，俄罗斯半导体芯片短缺，加之美国、英国和欧盟也祭出多项制裁，几乎所有拥有先进晶圆制造商都停止与俄罗斯实体合作。ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯的芯片设计师。在这样的背景下，俄罗斯科学院旗下应用物理研究所表示，他们将会在2028年开发出可以生产7nm芯片的光刻机，并且可以击败ASML同类产品。俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示，全球光刻机领导者ASML近20年来一直致力于EUV曝光机，目标是让世界顶尖半导体厂商保持极高的生产效率。这一消息引起了业界广泛关注。总之，俄罗斯加速研发自主光刻机的举措将有助于提高国家在半导体领域的竞争力，并对全球半导体产业产生重要影响。 

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